直線電機輔助3nm芯片工藝進展順利。上個月中旬，臺積電聯席主席TS-wei在一次投資者和金融分析師電話會議上表示，臺積電3nm芯片制造工藝的發(fā)展進展相當順利，已經開始接觸早期客戶。

 

 

 

根據直線電機系列收集的數據，CC-Wei只透露了臺積電在N3節(jié)點的技術發(fā)展進展順利，臺積電已經評估了所有可能的晶體管結構選擇，并為客戶提供了合理的解決方案。未提及N3的特性及其與N5相比的優(yōu)點。

 

 

 

此外，直線電機小系列可以確保臺積電3nm節(jié)點將使用深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻設備。由于臺積電N5工藝使用14層EUV，相關人員希望使用N3。層數可能更高。

 

 

 

當談到極端紫外線（EUV）時，直線電機小系列必須提到荷蘭ASMA（ASML.O），因為到目前為止，只有ASMA成功地開發(fā)、制造和銷售了極端紫外線（EUV）設備。據報道，ASMA的主要業(yè)務是光刻機，它占光刻機市場的80%以上，在45納米及以下，并在EUV光刻領域處于壟斷地位。

 

 

 

近年來，隨著直線電機的迅速發(fā)展，它已與光刻設備相聯系。目前，在光刻機中使用直線電機的情況也比較普遍。對于上海微電子來說，它是專門從事半導體設備的。研發(fā)與制造，產品包括前光刻機、后包裝光刻機、平板顯示光刻機、測試設備、搬運設備等，以關鍵為重點，上海微電子多次向我方購買高性能、高性能的產品。博智達直線電機的質量用于光刻機的開發(fā)和制造。